La firma Zap & Buj, con origen leonés, debuta en Madrid Fashion Week

Una de las creaciones de Zap&Buj. / Lázaro

Las propuestas de la leonesa Elena Zapico y la palentina Raquel Buj convierten planos en patrones aproximando la arquitectura al cuerpo

ICAL

La leonesa Elena Zapico y la palentina Raquel Buj, creadoras de la firma ZAP & BUJ, se subieron este martes a por primera vez a la pasarela de Madrid Fashion Week para presentar Wall Paper, fashion and architecture, como premio del Samsung EGO Innovation Project, un certamen que premia a jóvenes creadores que exploran nuevas dimensiones del diseño y de la tecnología aplicada a la moda.

«Ha sido un chute de energía», aseguraban tan sólo unos minutos después del desfile, satisfechas de las primeras reacciones que han escuchado sobre su colección. Este martes han presentaron siete modelos futuristas que brillaron con luz propia para construir una interesante reflexión a modo de diálogo entre arquitectura y moda.

Su propuesta convierte planos en patrones aproximando la arquitectura al cuerpo. Lo consiguen a partir de paneles en forma de muros o veladuras que se transforman en vestidos gracias a la tecnología y al uso de tejidos y materiales con memoria de forma.

Las castellano y leonesas han trabajado así en el campo de la creación y fabricación digital de nuevas pieles: materiales que se adaptan a la forma del cuerpo al recibir un estímulo de calor. Para esta parte más innovadora, ZAP & BUG contó con la colaboración de Aitex, centro de referencia de investigación, innovación y servicios técnicos avanzados para el sector textil y la confeción de textiles técnicos y con el Instituto de Ciencia y tecnología de Polímeros del CSIC.

El director de marketing de la división IM de Samsung España, Luis de la Peña, comentó que «un año más, el talento y creatividad de los jóvenes creadores ha vuelto a sorprender y a descubrir nuevas posibilidades en la unión de diseño y tecnología». «El proyecto de Elena Zapico y Raquel Buj destaca por su visión de futuro y por la originalidad de su concepto, lo que le hace justo merecedor del premio Samsung EGO Innovation Project».

Elena Zapico y Raquel Buj se conocieron hace dos años cuando cursaban estudios de postgrado de especialización en Arquitectura, Moda y Diseño en la ETSAM. Fue entonces cuando aprendieron herramientas como diseño paramétrico y patronaje y comienzan a unir intereses. ZAP & BUJ, creada este mismo año, es una plataforma en la que trabajan desde la experimentación en taller con nuevos materiales y herramientas digitales que posibilitan esos acercamientos entre la moda y la arquitectura.

Elena Zapico ya ha trabajado en el mundo de la moda colaborando con reconocidos diseñadores como Sybilla y tiene amplia experiencia como coodinadora de desfiles. Por su parte Raquel ha cofundado su propio estudio de arquitectura cuyas obras han sido premiadas internacionalmente. Su intención ahora es continuar trabajando en el campo de la experimentación. "Nos apetece contar más, ha sido todo muy rápido». Sin embargo, son conscientes de que en España no será sencillo. No obstante, están determinadas «a lucharlo» porque lo que las motiva es jugar y hacer cosas diferentes. Un trabajo que continuarán desde su estudio en Madrid.

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